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EUV或将决定半导体产业方向,通快加紧布局
2022-10-23 00:18
本文摘要:近日,TRUMPF公司CTO及股东PeterLeibinger在谈及令人著迷的激光创意时重点提到极紫外光刻,也就是我们经常说道的EUV。他指出,EUV令人著迷的原因是其极具挑战性及对世界的最重要影响。PeterLeibinger“如果我们无法构建EUV突破,摩尔定律将过热”PeterLeibinger回应:“其影响范围某种程度是芯片行业,智能手机产业乃至整个电子装备产业都将转变运作方式。”什么是EUV?

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近日,TRUMPF公司CTO及股东PeterLeibinger在谈及令人著迷的激光创意时重点提到极紫外光刻,也就是我们经常说道的EUV。他指出,EUV令人著迷的原因是其极具挑战性及对世界的最重要影响。PeterLeibinger“如果我们无法构建EUV突破,摩尔定律将过热”PeterLeibinger回应:“其影响范围某种程度是芯片行业,智能手机产业乃至整个电子装备产业都将转变运作方式。”什么是EUV?极紫外光刻(ExtremeUltravioletLithography),经常称为EUV光刻,它以波长为10^-14nm的极紫外光作为光源的光刻技术。

明确为使用波长为13.4nm的软x射线。在半导体芯片及集成电路生产领域,目前主要使用193nm水龙头光刻技术对晶片上的细致特征展开图案化。但是,193nm水龙头式光刻在80nm间距(40nm半间距)下超过无限大。为此,从22nm/20nm开始,芯片制造商开始用于193nm水龙头光刻以及各种多种图案化技术。

为了增大多达40nm的间距,多个图案化牵涉到在晶圆厂中用于几个光刻,转印和沉积步骤的过程。随之而来的就是制程成本及周期时间的快速增长。为了解决问题这些问题,芯片厂商开始将目光改向EUV光刻。

相对于193nm水龙头式光刻,EUV光刻可以获取更高的k1,在获取高分辨率的同时享有较小的工艺窗口,从而增加光刻工艺复杂性。月基于这些优势,EUV更有了芯片制造厂商及设备厂商的普遍注目。三星公司回应,接下来的7nm工艺将使用EUV光刻。

在英特尔方面,虽然还没具体EUV光刻引入时间,但是也将其作为未来最重要制程技术之一。在产生近于紫外光的各种光刻工具里,激光器充分发挥最重要起到。

为此,TRUMPF公司在EUV领域重点投放。与ASML公司创建合作关系2015年ASML向TRUMPF公司采购了15台EUV光刻工具,而ASML则是全球EUV光刻领域领导者。TRUMPF公司也回应将大力布局极紫外激光器。此外,TRUMPF公司也投资7000万欧元在德国迪琴根建设一座占地面积34000平方米的工厂,主要用作生产极紫外光刻所必须的激光器产品。

对于接下来将要经常出现的EUV订单,TRUMPF公司充满信心。而ASML公司也预计其客户将在2018至2019年后,开始将EUV光刻技术用于在芯片量产上。因此,在2020年前,第一批配备以EUV光刻技术生产的芯片的电子装备将上市。实质上,ASML公司收到的未销售订单早已高达21台。

另外,在柔性平板显示屏生产中紫外激光器应用于市场需求也将更进一步减少,这些都是TRUMPF公司对于EUV重点投资的原因。并购AccessLaser公司完备布局近日,通快公司宣告并购AccessLaser公司85%股份。AccessLaser公司主要生产高精密较低功率CO2激光器用作极紫外光刻(EUV),这也是通快公司主要的投资方向之一。

作为光源,该CO2激光器和通快激光放大器联合部署于EUV系统。通快公司回应,通过此次并购将统合EUV技术供应链领域关键成员。

通快公司CTO及股东PeterLeibinger回应:“AccessLaser是我们EUV业务的核心伙伴,一家富裕创新力的激光企业。此次并购之后,两家公司将更为密切地合作以前进EUV技术发展,服务更好的应用于及客户。

”经过多年的持续发展,EUV技术工艺渐渐成熟期,这为公司销售带给相当大促进作用。AccessLaser创始人及董事长张永方回应:“AccessLaser仍然富裕创意精神。

此次在EUV技术领域的合作,顺利展现出了AccessLaser和TRUMPF两家公司的协作关系。”正式成立于1999年,AccessLaser在美国和中国享有多达60名员工。

其产品还包括输出功率在10mW到50W之间,峰值功率高达1KW的仪器激光器,应用于医学、电子及科研领域。此次收购价格,暂未对外发布。


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